闪耀光栅加工工艺是制备高性能衍射光栅的核心技术，通过在基底材料表面刻蚀出具有特定倾角的周期性锯齿状沟槽，实现光能量的定向集中，兼具高衍射效率、精准波长选择、工艺可控性强等特点，广泛应用于光谱分析、激光技术、天文观测等光学领域，是突破传统光栅性能局限的关键工艺。
高衍射效率与定向聚光是其核心技术优势。传统平面光栅存在光能量分散于各衍射级次的问题，而闪耀光栅加工工艺通过精确控制沟槽的闪耀角（通常为1°-30°），将80%以上的光能量集中到特定衍射级次，大幅提升光的利用率。在光谱仪中，采用该工艺制备的闪耀光栅可显著增强目标波长的信号强度，使微量物质的光谱检测更灵敏；在激光调谐系统中，通过优化闪耀角设计，能实现特定波长激光的高效输出与精准调控。
多工艺适配与高精度控制彰显技术实力。根据基底材料（玻璃、金属、半导体）与应用需求的不同，闪耀光栅加工工艺可分为机械刻划法、全息光刻-离子束刻蚀法、激光直写法等。机械刻划法通过金刚石刀具在基底上逐线刻划，沟槽精度可达纳米级，适用于制备大尺寸光栅；全息光刻-离子束刻蚀法利用干涉条纹形成光刻图案，再通过离子束定向刻蚀形成闪耀结构，适合批量生产高精度光栅。两种工艺均能实现沟槽周期（0.5μm-100μm）与闪耀角的精准控制，误差可控制在0.1°以内。
复杂环境适应性拓展应用边界。通过该工艺制备的闪耀光栅，表面可镀制铝、金等金属膜或介质膜，增强耐磨性与抗腐蚀性能，适配高温、高湿度等严苛工作环境。在天文望远镜的光谱仪中，金属膜闪耀光栅能承受太空环境的辐射与温度波动；在工业在线检测设备中，介质膜闪耀光栅可抵御粉尘与化学气体侵蚀，保证长期稳定运行。
