资讯中心NEWS CENTER
在发展中求生存，不断完善，以良好信誉和科学的管理促进企业迅速发展在光电子、成像技术以及人工智能等前沿领域，微透镜阵列加工工艺要求严苛，关乎性能优劣与应用拓展，以下从多方面剖析关键要点。材料遴选是根基，需兼顾光学特质与机械稳定性。石英凭借超高透过率、低折射率温度系数，成为紫外至近红外波段理想选择，能精准聚焦光线，减少色差干扰；聚甲基丙烯酸甲酯（PMMA）因良好塑形性、较轻质与适中折射率，适配红外成像及轻量化需求场景，利于大规模制备。选定材料后，严格把控纯度，微量杂质都可能散射光线、降低阵列均匀性。精度把控贯穿加工全程，尺寸公差近乎“毫厘必究...
查看详情纳米压印光刻是一种高精度、低成本的微纳制造技术，通过机械压印将模板图案转移到基片上的功能性材料(如抗蚀剂)中，并结合紫外光固化或热固化实现图案定型。其加工效果受多种因素影响，以下从模具特性、压印材料、工艺参数、环境条件及后处理等方面进行详细分析。一、模具特性1.模具材料与硬度模具材料需具备高硬度(如硅、石英或金属合金)以抵抗压印过程中的机械磨损，同时具有低黏附性以防止脱模困难。例如，硅模具表面可通过化学修饰(如氟化处理)降低表面能，减少抗蚀剂粘附。-热膨胀系数匹配：模具与基片...
查看详情在现代照明与显示领域，LED（发光二极管）凭借节能、长寿、环保等优势熠熠生辉，而其背后复杂且精细的加工工艺，步步精心，方成就这照亮世界的“光之源”。芯片制造是根基，始于高纯度半导体材料。常以砷化镓、蓝宝石为衬底，通过化学气相沉积（CVD）或分子束外延（MBE）工艺，精准生长出多层量子阱结构。CVD时，气态反应物在高温衬底上分解、扩散，按预设厚度沉淀成晶膜；MBE则如“太空‘喷洒’原子”，在超高真空下，将元素分子束射向衬底，一层层堆叠出纳米级精度的薄膜，此过程温度、气压、气体流...
查看详情闪耀光栅凭借的定向衍射特性，在光谱仪器中占据核心地位。其加工工艺流程需经过多道精密工序，从基底制备到成品检测，每一步都需严格控制精度，以下是详细流程解析。1、基底材料制备与预处理闪耀光栅的基底需选用光学性能稳定的材料，常用熔融石英（透射型）或铝合金（反射型）。首先对原材料进行切割，采用金刚石锯片将石英棒或金属块切割成预设尺寸（如100mm×100mm×5mm），切割面平面度误差控制在5μm以内。切割后的基底进行粗磨，使用800目碳化硅砂轮去除表面毛刺和切割痕迹，使表面粗糙...
查看详情纳米压印光刻是一种高分辨、低成本的图案化技术，广泛应用于半导体制造、纳米结构加工和生物芯片等领域。其核心原理是通过物理或化学方式将纳米尺度的模板图案转移到目标材料上。以下从设备组成、操作流程、关键技术参数和常见问题等方面详细阐述使用细节。一、设备组成与功能模块1.压印系统-压盘与模板台：用于承载硅模板或石英模板，支持二维/三维精密对准。-压力控制模块：提供均匀压力(0.1-20bar)，确保模板与基片充分接触。-加热/冷却系统：温控范围通常为室温至300℃，用于热固化或软化抗...
查看详情微透镜阵列作为一种微纳结构元件，在光通信、成像系统、光学传感等众多领域展现出巨大的应用潜力。然而，要实现其高性能的应用，加工工艺必须满足一系列严苛的要求。一、精度要求微透镜阵列的精度直接关系到其光学性能。首先，单个微透镜的曲率半径精度要求高。哪怕是微小的曲率偏差，都可能导致焦距的改变，进而影响光线的聚焦效果。例如在光通信中，若微透镜阵列的曲率不准确，会使光信号的耦合效率降低，增加信号损失。其次，微透镜之间的间距精度也至关重要。不均匀的间距会使光线在阵列中的传播路径发生紊乱，破...
查看详情
