资讯中心NEWS CENTER
在发展中求生存，不断完善，以良好信誉和科学的管理促进企业迅速发展斜齿光栅是指在光栅基板上加工的沟槽横截面呈非对称三角形、槽面（闪耀面）与基板法线呈特定闪耀角且槽脊连线通常与入射面垂直（经典）或在某些凹面/平面光栅中与光轴有小夹角（斜齿——"斜齿"在此指槽形为斜三角形齿而非直槽正弦形，区别于平行脊无闪耀），从而使某一衍射级次（通常+1或-1级）在特定波长λ_B获得最大衍射效率。它是高效色散光栅的典型结构，广泛用于单色仪、ICP-OES、拉曼光谱仪及天文光谱仪。所谓"斜齿光栅加工工艺"即指通过金刚石刻划或全息+定向离子刻蚀在基板上形成具精确控...
查看详情在激光加工、3D传感、LiDAR及光通信系统中，往往需要把单一高斯光束变成特定图案——均化光斑、平顶光、线光斑、多点阵列或随机散斑。衍射光学元件正是实现这一"光束整形"的微型光学元件，其表面或内部刻有精心设计的正弦或二元相位光栅结构。DOE加工工艺通过微电子光刻与离子束刻蚀技术，将复杂的相位分布物理化为亚微米精度的相位台阶或连续浮雕，是赋予激光"智慧光束"的制造基石。DOE加工的核心是多阶相位延迟控制。对于常用的二元光学DOE，相位延迟φ(x,y)=2π(n-1)d(x,y)...
查看详情纳米压印胶是纳米压印技术的核心材料，主要用于将模板上的纳米级图案转移到基底表面，广泛应用于光电子器件、生物芯片、微流控等领域。其性能直接影响图案保真度、残留层厚度及脱模成功率。本文从材料选择、预处理、涂覆工艺、压印参数、固化控制、脱模技巧六个维度，系统阐述纳米压印胶的使用细节。一、材料选择与特性匹配1.胶水类型与适用场景-热塑性树脂(如PMMA)：需加热至玻璃化转变温度(Tg)以上软化流动，适用于高温耐受性要求低的场景，但冷却收缩易导致图案畸变。-紫外固化胶(UV-curab...
查看详情紫外纳米压印光刻技术以其高精度、低成本的优势，成为微纳制造领域的核心工具。然而，其操作流程复杂且对环境敏感，稍有不慎便可能导致图案缺陷、良率下降甚至设备损坏。本文揭示常见使用误区，助您规避风险，提升工艺稳定性。一、忽视模板预处理的致命疏漏误区表现：直接使用新购或重复使用的模板，忽略表面清洁与抗粘处理。-后果：残留颗粒物引发局部压印不均；未涂覆抗粘层的模板易与基材粘连，导致脱模时图案撕裂。-正确操作：-每次使用前吹扫模板表面，配合紫外臭氧清洗去除有机污染物；-定期采用等离子体处...
查看详情纳米压印工艺开发需整合多学科技术，针对当前存在的模板寿命短、大面积均匀性差及三维结构套刻精度低等核心问题。以下从六大技术维度展开深度解析：一、高精度模板制备技术-母版加工与复制技术-电子束光刻(EBL)/聚焦离子束(FIB)直写：实现≤10nm分辨率图案，适用于研发级原型制作。-纳米球自组装：通过胶体晶体自组织形成周期性结构，成本较低但适配二维有序图案。-子版批量复制：采用PDMS或硬质树脂复刻母版结构，降低量产成本。-表面改性与抗粘处理-氟化钝化层：减少脱模时聚合物残留，延...
查看详情在AR/VR显示、光学通讯、成像系统、激光技术、偏振检测等先进光学领域，对光的偏振态、相位、传播方向的精准调控是提升系统性能的核心关键。传统光学调制元件存在体积大、集成度低、调制效率低、响应速度慢等痛点，难以满足现代光学系统小型化、高精度、高集成的发展需求。偏振光栅作为一种基于几何相位调制原理的新型光学元件，通过控制光学各向异性材料光轴的空间变化实现对光的精准调制，具备高衍射效率、超薄轻量化、宽波段适配、快速响应等核心优势，广泛应用于AR光波导、头戴式显示、偏振成像、激光光束...
查看详情
