详细介绍
GL300 Cluster全自动纳米压印光刻生产线是模块化的全自动纳米压印生产线,集成了从纳米压印基底清洗、涂胶、烘烤、冷却直至纳米压印全套工艺步骤。标配天仁微纳CLIV(Contact Litho in Vacuum)压印技术,可实现200/300mm基底面积上全自动高精度(优于10nm )、高深宽比(优于10比1 )纳米结构复制量产。设备采用模块化设计,用户可以根据工艺需求和生产节奏自由配置清洗、涂胶、烘烤、冷却、Plasma表面处理、AOI检测、Post Cure以及压印的模块数量,达到生产效率。设备支持自动工作模具复制、工作模具自动更换、自动预处理和压印、自动脱模,整个工艺过程在密闭洁净环境中进行,以保证压印结果质量。
GL300 Cluster纳米压印设备适用于DOE、AR/VR衍射光波导(包括斜齿光栅)、线光栅偏振、超透镜、生物芯片、LED、微透镜阵列等应用领域的大规模量产。
●全自动200/300mm大面积、高精度、高深宽比纳米压印生产线
●确保压印结构精度与结构填充完整性
●设备内自动复制柔性复合工作模具,降低大面积纳米压印模具使用成本
●全自动预处理步骤,包括基材兆声波清洗、旋涂匀胶、烘烤、冷却
●自动压印、自动曝光固化、自动脱模,工艺过程在局部洁净环境中自动进行,以保证压印质量
●标配高功率紫外LED面光源(365nm,光强>1000mW/cm2 ),水冷冷却,特殊功率以及特殊、混合波长光源可订制,支持各种商用纳米压印材料
●产能可大于100片每小时,适合DOE、AR/VR衍射光波导(包括斜齿光栅)、生物芯片、LED等应用领域的量产
●随机提供全套纳米压印工艺与材料,包括DOE、AR斜齿光栅、高密度、高深宽比结构等工艺流程,帮助客户零门槛达到高质量的纳米压印水平
兼容基底尺寸 | 200mm、300mm 特殊尺寸可定制 |
支持基底材料 | 硅片、玻璃、石英、塑料、金属等 |
上下片方式 | Cassette to cassette全自动上下片 |
晶圆预对位 | 光学巡边预对位 |
纳米压印技术 | CLIV技术,适合高精度、高深宽比纳米结构压 |
纳米压印预处理工艺步骤 | CLIV技术,适合高精度、高深宽比纳米结构压印、清洗(毛刷、二流体、兆声波)、旋涂匀胶、加热烘烤、冷却、plasma表面处理 |
压印精度 | 优于10纳米* |
结构深宽比 | 优于10比1* |
残余层控制 | 可小于10nm* |
紫外固化光源 | 紫外LED(365nm)面光源,光强>200mW/cm2,水冷冷却(2000mW/cm2类型光源可选配) |
设备内部环境控制 | 标配,外部环境Class 100,内部环境可达Class 10* |
自动压印 | 支持 |
自动脱模 | 支持 |
自动工作模具复制 | 支持 |
自动工作模具更换 | 支持 |
模具基底对位功能 | 自动对位(选配) |
Post Cure | 选配 |
AOI在线检测 | 选配 |
产能 | 可大于100片每小时* |
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