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GL300 Cluster纳米压印光刻生产线

产品型号:

简要描述:GL300 Cluster全自动纳米压印光刻生产线是模块化的全自动纳米压印生产线,集成了从纳米压印基底清洗、涂胶、烘烤、冷却直至纳米压印全套工艺步骤。标配天仁微纳CLIV(Contact Litho in Vacuum)压印技术,可实现200/300mm基底面积上全自动高精度(优于10nm )、高深宽比(优于10比1 )纳米结构复制量产。

  • 厂家实力

    Manufacturer Strength
  • 有效保修

    Valid Warranty
  • 质量保障

    Quality Assurance

详细介绍

GL300 Cluster全自动纳米压印光刻生产线是模块化的全自动纳米压印生产线,集成了从纳米压印基底清洗、涂胶、烘烤、冷却直至纳米压印全套工艺步骤。标配天仁微纳CLIV(Contact Litho in Vacuum)压印技术,可实现200/300mm基底面积上全自动高精度(优于10nm )、高深宽比(优于10比1 )纳米结构复制量产。设备采用模块化设计,用户可以根据工艺需求和生产节奏自由配置清洗、涂胶、烘烤、冷却、Plasma表面处理、AOI检测、Post Cure以及压印的模块数量,达到生产效率。设备支持自动工作模具复制、工作模具自动更换、自动预处理和压印、自动脱模,整个工艺过程在密闭洁净环境中进行,以保证压印结果质量。

GL300 Cluster纳米压印设备适用于DOE、AR/VR衍射光波导(包括斜齿光栅)、线光栅偏振、超透镜、生物芯片、LED、微透镜阵列等应用领域的大规模量产。

主要功能

●全自动200/300mm大面积、高精度、高深宽比纳米压印生产线
●确保压印结构精度与结构填充完整性
●设备内自动复制柔性复合工作模具,降低大面积纳米压印模具使用成本
●全自动预处理步骤,包括基材兆声波清洗、旋涂匀胶、烘烤、冷却
●自动压印、自动曝光固化、自动脱模,工艺过程在局部洁净环境中自动进行,以保证压印质量
●标配高功率紫外LED面光源(365nm,光强>1000mW/cm2 ),水冷冷却,特殊功率以及特殊、混合波长光源可订制,支持各种商用纳米压印材料

●产能可大于100片每小时,适合DOE、AR/VR衍射光波导(包括斜齿光栅)、生物芯片、LED等应用领域的量产
●随机提供全套纳米压印工艺与材料,包括DOE、AR斜齿光栅、高密度、高深宽比结构等工艺流程,帮助客户零门槛达到高质量的纳米压印水平

GL300 Cluster全自动纳米压印光刻生产线设备照片

相关参数

兼容基底尺寸 200mm、300mm 特殊尺寸可定制
支持基底材料 硅片、玻璃、石英、塑料、金属等
上下片方式 Cassette to cassette全自动上下片
晶圆预对位 光学巡边预对位
纳米压印技术 CLIV技术,适合高精度、高深宽比纳米结构压
纳米压印预处理工艺步骤 CLIV技术,适合高精度、高深宽比纳米结构压印、清洗(毛刷、二流体、兆声波)、旋涂匀胶、加热烘烤、冷却、plasma表面处理
压印精度 优于10纳米*
结构深宽比 优于10比1*
残余层控制 可小于10nm*
紫外固化光源 紫外LED(365nm)面光源,光强>200mW/cm2,水冷冷却(2000mW/cm2类型光源可选配)
设备内部环境控制 标配,外部环境Class 100,内部环境可达Class 10*
自动压印 支持
自动脱模 支持
自动工作模具复制 支持
自动工作模具更换 支持
模具基底对位功能 自动对位(选配)
Post Cure 选配
AOI在线检测
选配
产能 可大于100片每小时*

 

 

 

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