产品系统NEWS CENTER
首页-产品系统--纳米压印配套设备-GL Plasma等离子体清洗设备
产品型号:
简要描述: GL Plasma等离子体清洗设备数适用于大300mm直径以下晶圆或者330×400mm基材(软工作模具基材)。
厂家实力
有效保修
质量保障
产品中心
纳米压印配套设备
相关文章
详细介绍
GL Plasma等离子体清洗设备主要应用于活化,提升附着力和清洗等工艺。
●适用于大300mm直径以下晶圆或者330×400mm基材(软工作模具基材)
●适用于清洗纳米压印基底表面
●适用于纳米压印基底表面增粘、激活、改性
●适用于增加工作模具基材与模具复制材料粘附性
产品咨询
相关产品
型号:
0532-67769322
关注我们微信账号
扫一扫手机浏览
Copyright©2024 青岛天仁微纳科技有限责任公司 版权所有 备案号:鲁ICP备2020033883号-2 sitemap.xml 技术支持:化工仪器网 管理登陆
TEL:0532-67769322